AG Helal, H El-Khabeary, SI Radwan
Estudio del procesamiento de haces de iones utilizando diferentes materiales
Se estudió la simulación del procesamiento de haces de iones en diferentes materiales objetivo utilizando diferentes gases nobles. La simulación se llevó a cabo utilizando iones de neón, argón y criptón con carga simple a diferentes energías mayores de 3 keV y hasta 10 keV. El código informático de código abierto SRIM 3D se utilizó en la simulación para determinar la penetrabilidad del haz de iones en el material objetivo, así como la dependencia del alcance en la energía del haz. Se estudió el efecto del número atómico del material objetivo en el rango de penetración de iones. Se determinó la distribución del alcance y la trayectoria de los iones en el material objetivo. Se determinó el rendimiento de pulverización catódica de los materiales objetivo estudiados debido al bombardeo de iones, mostrando que el rendimiento de pulverización catódica más alto es cuando se utiliza criptón como gas de trabajo para la producción de iones, sin embargo, el menor alcance es el del haz de iones de criptón.